并购加码半导体，艺康掘金AI时代的“水刚需”

文丨罗曾

在SEMICON Taiwan 2026国际半导体展上，艺康集团展示完整半导体水管理解决方案，这是该企业2025年底收购Ovivo旗下电子超纯水业务后，面向半导体产业链的公开亮相。

该展会由国际半导体产业协会（SEMI）主办，是亚洲规模最大的半导体专业展会。展会主题方向为“More AI Chips. Less Water（多一片AI芯，少一分水耗）”，艺康依托自身水处理技术积累与数字化能力，结合并购，开展半导体超纯水及水循环相关业务。

AI投资扩张拉动先进制程AI芯片产能需求，半导体行业市场规模持续走高。SEMI发布的《年中总半导体设备市场预测报告》，将2026年全球半导体设备销售额上调至1659亿美元，同比增长23.2%，并预测2028年设备销售额可达2295亿美元，实现连续五年增长。世界半导体贸易统计组织（WSTS）6月发布报告显示，受AI带动，2026年全球半导体市场规模将超1.5万亿美元，同比增长90%；预计2027年市场规模1.914万亿美元，增速26.6%。艺康集团董事长、总裁兼首席执行官克里斯托夫·贝克提到，AI驱动大规模基建建设，2025年相关投资超5000亿美元，未来有望接近1万亿美元；行业几乎每周新增一座数据中心，每月新增一座晶圆厂。

半导体制造属于高耗水领域，单座晶圆厂年耗水量可满足1700万人口饮用水需求。芯片生产对水质标准严苛，需要使用超纯水，台积电举例，先进制程超纯水洁净度相当于1000座奥运泳池中仅允许存在1毫升杂质。光刻、刻蚀、化学机械抛光等工序前后均需清洗晶圆，微量杂质就会影响芯片良率甚至造成产品失效。

生产过程同步产生大量成分复杂的废水，包含氟化物、异丙醇、TMAH等有机溶剂、二氧化硅纳米颗粒、铜等金属离子，废水污染物浓度会随生产批次、工艺调整发生波动。废水处置不当，会影响工厂生产运行，还会威胁区域水环境。晶圆制造企业普遍面临稳定水质、提升水回收率、控制运营风险的现实问题。6月1日，SpaceX更新IPO申请文件，将水资源短缺列为风险因素，水资源获取与电力、芯片一并被视作制约AI算力扩张的要素。

2025年12月，艺康以18亿美元收购Ovivo电子业务，获取其超纯水生产设备与技术。艺康将该部分技术，和自身水处理、数字化服务能力整合，面向半导体行业提供循环水管理方案。旗下纳尔科品牌拥有水质管理、腐蚀控制、微生物防治、现场维护等技术方案，依托3D TRASAR™数字化工具，落地水管理全生命周期服务，帮助客户实现节水节能。

艺康的水处理业务覆盖半导体工厂多个环节：水资源回收再利用、冷却水、水质预处理、废气洗涤塔、废水处理、工艺冷却水、超纯水生产。整合Ovivo技术后，形成覆盖超纯水、制程水、废水回收的一体化水循环方案。